簡介

第五代飛納電鏡能譜一體機 Phenom ProX 是終極的集成化成像分析系統,分辨率提升 20%,進一步增加應用范圍,更加適用于對電子束敏感的樣品。借助該系統,既可觀察樣品的表面形貌,又可分析其元素組分。

研究樣品時,得到樣品的形貌信息只是解決了一半問題。獲得樣品的元素組分信息往往也是非常必要的。借助全面集成、特殊設計的能譜探測器,飛納電鏡能譜一體機 Phenom ProX 可以完善解決上述所有問題。

能譜儀是一種基于樣品被電子束激發而產生 X 射線的分析儀器。Phenom 的能譜儀無論軟件、硬件都是完全集成設計在飛納電鏡能譜一體機 Phenom ProX 系統中。

Element Identification (EID) 軟件可以使用戶實現多點分析,檢測樣品的元素組分。此外,該軟件還可以擴展到元素分析線面掃(mapping)功能。分步操作界面可以幫助用戶更方便地收集、導出分析數據。

下載規格表

規格參數

 

Phenom Pro

Phenom ProX

Phenom XL

光學放大

20 - 134 X

20 - 134 X

3 - 16 X

電子光學放大

80 - 150,000 X

80 - 150,000 X

80 - 100,000 X

分辨率

優于 8 nm

優于 8 nm

優于 10 nm

數字放大

Max. 12 X

Max. 12 X

Max. 12 X

光學導航相機

彩色

彩色

彩色

加速電壓

5 kV - 15 kV  連續可調

5 kV - 15 kV  連續可調

5 kV - 20 kV  連續可調

真空模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

高真空模式

探測器

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

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展示

案例分析

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