簡介

飛納 Phenom ParticleX 增材制造金屬粉末全面評估系統 以臺式掃描電鏡和能譜儀為硬件基礎,可以全自動對顆粒或雜質進行快速識別、分析和分類統計,為客戶的研發以及生產提供快速、準確和可靠的定量數據支持。

在增材制造中,粉末的尺寸、形狀和化學性能對于粉末床的行成、熔池和微觀均質性可能會產生重大影響。激光粒度儀雖然可以檢驗粉末粒度和形狀,但無法自動檢測和分析雜質顆粒。

Phenom ParticleX 專為工業環境使用而開發,可進行所有這些工作,并可生成標準報告,顯示尺寸和形狀分布以及識別污染顆粒。

同時具備納米級分辨率成像功能,分辨率為 10 nm,可以對斷口表面、單個顆粒和表 面缺陷(如氣孔、夾雜物和微裂紋)進行高分辨率成像。

下載規格表

規格參數

 

Phenom ParticleX AM

光學放大

3 - 16 X

電子光學放大

80 - 100,000 X

分辨率

優于 10 nm

數字放大

Max. 12 X

光學導航相機

彩色

加速電壓

5 kV - 20 kV 連續可調

真空模式

高分辨率模式

降低核電效應模式

高真空模式

探測器

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

  下載 Particle X AM 手冊

 

展示

案例分析

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