簡介

飛納 Phenom ParticleX 全自動清潔度分析系統 以臺式掃描電鏡和能譜儀為硬件基礎,可以全自動對顆粒或雜質進行快速識別、分析和分類統計,為客戶的研發以及生產提供快速、準確和可靠的定量數據支持。該過程完全符合 ISO 16232 和 VDA 19 要求。

傳統的清潔度分析方法(重量法和光鏡法)只能提供清潔部件上大顆粒灰塵和碎片的總體重量或形狀信息,而不能全面分辨顆粒的污染源。Phenom ParticleX 取代傳統顆粒物清潔度檢測方法,允許工程師看見微米尺寸的顆粒并確定其化學成分,從而判斷出污染源。

借助 Phenom ParticleX 全自動清潔度分析系統,只需一鍵,即可自動分析 4 片直徑 47mm 的濾膜,并且自動生成報告,更有效率地監控過程清潔度。

下載規格表

規格參數

 

Phenom ParticleX TC

光學放大

3 - 16 X

電子光學放大

80 - 100,000 X

分辨率

優于 10 nm

數字放大

Max。 12 X

光學導航相機

彩色

加速電壓

5 kV - 20 kV 連續可調

真空模式

高分辨率模式

降低核電效應模式

高真空模式

探測器

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

  下載 Particle X TC 手冊

 

展示

案例分析

復納科學儀器(上海)有限公司 飛納中國 版權所有

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